Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Instituto de investigación en Itzehoe, Alemania.
El Instituto Fraunhofer de Tecnología del Silicio opera instalaciones modernas de sala limpia dedicadas al desarrollo y fabricación de microelectrónica y tecnología de microsistemas.
Fundado en 1999, el instituto surgió como parte integral de la Sociedad Fraunhofer para impulsar las tecnologías basadas en silicio y aplicaciones industriales en el norte de Alemania.
El instituto mantiene conexiones sólidas con instituciones académicas y socios industriales, facilitando el intercambio de conocimientos mediante programas especializados, talleres y colaboraciones de investigación.
Los científicos desarrollan componentes de electrónica de potencia y microsistemas para aplicaciones en medicina, ingeniería ambiental, tecnología de comunicación e industria automotriz.
El instituto alberga capacidades de fabricación que permiten la producción directa de microchips a escala industrial, conectando la investigación con la implementación comercial.
Ubicación: Itzehoe
Fundación: 1999
Parte de: Fraunhofer Society
Sitio web: http://isit.fraunhofer.de
Coordenadas GPS: 53.95720,9.48278
Última actualización: 3 de marzo de 2025 a las 16:22
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