Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Instituto de investigación en Itzehoe, Alemania.
El Instituto Fraunhofer de Tecnología del Silicio es una instalación de investigación en Itzehoe que se enfoca en el desarrollo de semiconductores y microsistemas. El edificio contiene laboratorios modernos con condiciones especiales donde se producen chips y componentes para varias industrias.
El instituto fue fundado en 1999 como parte de la Sociedad Fraunhofer, que apoya la investigación en Alemania. Desde entonces, se ha convertido en un centro importante para desarrollar tecnologías de silicio en el norte de Alemania.
El instituto colabora estrechamente con universidades y empresas para compartir conocimientos sobre tecnologías modernas. Los visitantes pueden ver cómo la investigación y la industria se conectan aquí a través de proyectos conjuntos.
El instituto está ubicado en Itzehoe y es accesible por transporte público, que ofrece buenas conexiones a la ciudad. Los visitantes deben consultar con anticipación ya que no todas las áreas están abiertas al público.
El instituto opera sus propias instalaciones de producción, lo que le permite fabricar microchips a escala industrial. Esto es inusual porque las instituciones de investigación típicamente solo desarrollan productos mientras que la fabricación ocurre en fábricas separadas.
Ubicación: Itzehoe
Fundación: 1999
Parte de: Fraunhofer Society
Sitio web: http://isit.fraunhofer.de
Coordenadas GPS: 53.95720,9.48278
Última actualización: 13 de diciembre de 2025 a las 13:22
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